化學法制膜大有可為

 和業內業外的人只要談起光學薄膜，光學鍍膜，首先別人就是問您用的是哪家的設備的？德國萊寶還是日本光馳？殊不知，還有另外的成膜方法，那就是化學法做光學薄膜，用化學涂層進行光學Coating.

     今天就舉一個發生在我們中國本土化學法涂層的技術案例，為我國的激光裝置做了巨大的貢獻。

美國勞倫斯·利弗莫爾實驗室在高功率激光裝置中使用了化學法的防潮膜和減反膜，相比傳統真空法膜層具有更高的激光破壞閾值。1994年中國高功率激光實驗室，經過神光Ⅱ總體技術組領導論證決策，*終決定在神光Ⅱ項目中也采用類似的化學涂膜方案——以溶膠凝膠法制備有機硅防潮膜和多孔性二氧化硅減反膜。

這種方案要求：在KDP晶體表面先涂一層防潮解膜，再涂一層和折射率匹配的減反膜，這樣既可以解決倍頻器晶體的易潮解問題，減少表面反射率，還能承受強激光輻射。如果采取真空鍍膜法是無法完成這些性能，而溶膠凝膠法sol-gel上乘的解決了這一技術難題。

或許您不知道啥叫神光，這么說吧，他被美國五角大樓直言，中國神光是21世紀*厲害的**。

中國“神光III原型裝置”關鍵系統之一“靶場光電及控制系統”2015年1月26號，就順利通過了驗收。該項目集合了航天、機電、電氣等跨學科、交叉學科的研究團隊，是國家中長期科技發展規劃的十六個重大項目之一。伴隨著“神光III原型裝置靶場光電及控制系統”的驗收，“神光III主機裝置靶場光電與控制系統”也順利通過了預評審，為下一步的工作打下了良好的基礎。美國五角大樓一直緊盯中國神光III并提高警惕，五角大樓直言中國神光III是中國21世紀以來*為厲害并難以應對的神秘**。

我們再來看看他的性能，你就知道有都多強和有多難。

2011年7月14日，神光-Ⅲ激光裝置建設項目在光束口徑為360mm×360mm、脈沖寬度為3ns條件下，獲得了單束輸出激光波長為1053nm、脈沖調制度1.5:1、激光能量為7988焦耳的實驗結果，這一重大進展也是繼神光-Ⅲ激光裝置建設項目2009年12月29日實現“真空靶室吊裝就位”、2011年1月17日實現“首束出光”之后，又一個具有里程碑意義的節點目標。這一重要進展不僅標志著神光-Ⅲ主機裝置首束全系統聯調圓滿成功，也**驗證了主機裝置基頻光設計輸出能力。同時創造了我國激光驅動器單束輸出激光束通量的新紀錄，這是中國激光**事業的重大的突破具有劃時代的意義。

說了這么多，無非就是讓讀者知道，化學法雖然是比較古老的工藝，但是在某些特定的領域，有他獨特的先天優勢，只是很多人不了解其中的精髓，需要化學，物理，流體力學等各種交叉學科，而物理鍍膜只要買來進口的設備，進口的鍍膜靶材，稍做培訓就可以鍍出很好的薄膜。但是投資大，核心還是在外方。