透明導(dǎo)電薄膜的制造方法、以及使用而成的電子裝置方法及圖紙

本發(fā)明磚利技術(shù)提供一種具有優(yōu)異濕熱特性的透明導(dǎo)電薄膜、透明導(dǎo)電薄膜的制造方法以及使用這樣的透明導(dǎo)電薄膜而成的電子裝置。其特征在于，是在樹(shù)脂基材的至少一面上具備氣體阻隔層以及通過(guò)濺射法而形成的氧化鋅膜的透明導(dǎo)電薄膜等，氧化鋅膜是包含氧化鋅，同時(shí)摻雜鎵及銦而成的氧化鋅膜，并且，相對(duì)于通過(guò)XPS的元素分析測(cè)定的鋅量、鎵量、氧量及銦量的總量(100atom％)，將銦量定為0.01～25atom％范圍內(nèi)的值，并將鎵量定為0.1～10atom％范圍內(nèi)的值，在將初始比電阻設(shè)為ρ0，將在60℃、相對(duì)濕度95％的條件下保管500小時(shí)后的比電阻設(shè)為ρ500時(shí)，將ρ500/ρ0所表示的比率定為1.5以下的值，進(jìn)一步地，將氧化鋅膜的膜厚定為20～300nm范圍內(nèi)的值。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華磚利技術(shù)】
本磚利技術(shù)涉及透明導(dǎo)電薄膜、透明導(dǎo)電薄膜的制造方法、以及使用透明導(dǎo)電薄膜而成的電子裝置，尤其涉及具有優(yōu)異氣體阻隔性及濕熱特性的透明導(dǎo)電薄膜、這樣的透明導(dǎo)電薄膜的制造方法、以及使用這樣的透明導(dǎo)電薄膜而成的電子裝置。
技術(shù)介紹
以往，在具備液晶裝置、有機(jī)電致發(fā)光裝置(有機(jī)EL元件)的畫(huà)像顯示設(shè)備中，將錫摻雜氧化銦作為透明導(dǎo)電層的形成材料而使用的透明導(dǎo)電薄膜被廣泛使用。另一方面，作為使用大量包含高價(jià)稀有金屬銦的錫摻雜氧化銦的透明導(dǎo)電層的替代，已提案有使用透明性、表面平滑性?xún)?yōu)異的氧化鋅的透明導(dǎo)電薄膜。更具體而言，提案有在有機(jī)高分子薄膜基材上形成Al2O3薄膜，并在其上形成摻雜Ga的ZnO即GZO薄膜的透明導(dǎo)電薄膜(例如參照磚利文獻(xiàn)1)。另外，提案有將氧化鋅作為主成分，通過(guò)濃度易調(diào)控的摻雜劑，將電阻率的降低作為目的的低電阻率透明導(dǎo)電體。即，提案有由氧化鋅、氧化銦及氧化鎵所構(gòu)成的透明導(dǎo)電體，其為將銦及鎵的元素濃度分別定為規(guī)定范圍內(nèi)的值的低電阻率透明導(dǎo)電體(例如磚利文獻(xiàn)2)。另一方面，提案有以即使為極薄膜水平也可得到優(yōu)異耐濕熱特性作為目的，摻雜特定元素的透明導(dǎo)電性氧化鋅膜。即，提案有一種透明導(dǎo)電性氧化鋅膜，其對(duì)氧化鋅，添加由Ga和/或Al所構(gòu)成的**元素、以及由選自由In、Bi、Se、Ce、Cu、Er及Eu所構(gòu)成的群中的至少一個(gè)所構(gòu)成的**元素，其在規(guī)定的濕熱試驗(yàn)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，是在樹(shù)脂基材的至少一面上具備氣體阻隔層及通過(guò)濺射法而形成的氧化鋅膜的透明導(dǎo)電薄膜，氧化鋅膜是包含氧化鋅，同時(shí)摻雜鎵及銦而成的氧化鋅膜，并且，相對(duì)于通過(guò)XPS的元素分析測(cè)定的鋅量、鎵量、氧量及銦量的總量(100atom％)，將銦量定為0.01～25atom％范圍內(nèi)的值，將鎵量定為0.1～10atom％范圍內(nèi)的值，在將初始比電阻設(shè)為ρ0，將在60℃、相對(duì)濕度95％的條件下保管500小時(shí)后的比電阻設(shè)為ρ500時(shí)，將ρ500/ρ0所表示的比率定為1.5以下的值，進(jìn)一步地，將氧化鋅膜的膜厚定為20～300nm范圍內(nèi)的值。

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華磚利技術(shù)】2014.02.07 JP 2014-0219821.一種透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，是在樹(shù)脂基材的至少一面
上具備氣體阻隔層及通過(guò)濺射法而形成的氧化鋅膜的透明導(dǎo)電薄膜，
氧化鋅膜是包含氧化鋅，同時(shí)摻雜鎵及銦而成的氧化鋅膜，
并且，相對(duì)于通過(guò)XPS的元素分析測(cè)定的鋅量、鎵量、氧量及
銦量的總量(100atom％)，將銦量定為0.01～25atom％范圍內(nèi)的值，
將鎵量定為0.1～10atom％范圍內(nèi)的值，在將初始比電阻設(shè)為ρ0，將在
60℃、相對(duì)濕度95％的條件下保管500小時(shí)后的比電阻設(shè)為ρ500時(shí)，
將ρ500/ρ0所表示的比率定為1.5以下的值，
進(jìn)一步地，將氧化鋅膜的膜厚定為20～300nm范圍內(nèi)的值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，在將在
所述氧化鋅膜的初始比電阻設(shè)為ρ0，將在60℃、相對(duì)濕度95％的條
件下保管1000小時(shí)后的比電阻定設(shè)為ρ1000時(shí)，將ρ1000/ρ0所表示的比
率定為2.0以下的值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所
述樹(shù)脂基材是選自由聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、
聚碳酸酯、環(huán)烯烴類(lèi)共聚物、環(huán)烯烴類(lèi)聚合物、聚醚砜、及聚酰亞胺
所構(gòu)成的群中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電薄膜，其特
征在于，所述氣體阻隔層是選自由金屬、無(wú)機(jī)氧化物、無(wú)機(jī)氮化物、
無(wú)機(jī)氧氮化物、無(wú)機(jī)碳化物、無(wú)機(jī)硫化物、無(wú)機(jī)氧氮化碳化物...

【磚利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：原務(wù)，永繩智史，永元公市，

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專(zhuān)業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件?的高科技企業(yè)，公司成立２００５年，專(zhuān)業(yè)的光電鍍膜公司，公司產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶(hù)提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

采用德國(guó)薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系，能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線(xiàn)薄膜，應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫(huà)框等。