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各種濺射鍍膜方法的原理及特點
日期：2026-04-08 07:25
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摘要：各種濺射鍍膜方法的原理及特點
各種濺射鍍膜方法的原理及特點
濺射鍍膜的基本原理就是讓具有足夠高能量的粒子轟擊固體靶表面使靶中的原子發(fā)射出來，沉積到基片上成膜。濺射鍍膜有多種方式，其典型方式如表4 所示，表中列出了各種濺射鍍膜的特點及原理圖。
從電極結構上可分為二極濺射、三極或四極濺射和磁控濺射;射頻濺射適合于制備絕緣薄膜;反應濺射可制備化合物薄膜；中頻濺射是為了解決反應濺射中出現(xiàn)的靶中毒、弧光放電及陽極消失等現(xiàn)象;為了提高薄膜純度而分別研制出偏壓濺射、非對稱交流濺射和吸氣濺射;為了改善膜層的沉積質量，研究開發(fā)了非平衡磁控濺射技術。
表4 各種濺射鍍膜方法的原理及特點
上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產光學儀器及其零配件?的高科技企業(yè)，公司成立２００５年，專業(yè)的光電鍍膜公司，公司產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學透鏡、反射鏡、棱鏡等光學鍍膜產品的開發(fā)和生產，為全球客戶提供上等的產品和服務。
采用德國薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴格工藝標準的閉環(huán)式流程技術制備體系，能夠制備各種超高性能光學薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應用領域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導、面部識別、VR/AR應用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框等。 